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    場發(fā)射掃描電鏡（SEM）

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    平均周期4天  |  總體滿意度99.4%

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     場發(fā)射透射電鏡（TEM）

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    已預(yù)約26324次

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     SEM云現(xiàn)場/現(xiàn)場

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     TEM云現(xiàn)場/現(xiàn)場

    TEM云現(xiàn)場/現(xiàn)場

    已預(yù)約23596次

    平均周期4天  |  總體滿意度99.3%

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     原子力顯微鏡（AFM）

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     負染色技術(shù)

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     聚光鏡球差透射（AC-STEM）

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    已預(yù)約11073次

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     AFM-云現(xiàn)場

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    已預(yù)約5616次

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     電子背散射衍射（EBSD）-可云現(xiàn)場選區(qū)

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    已預(yù)約5870次

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     生物樣本透射電鏡（TEM）

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    已預(yù)約6594次

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     激光共聚焦顯微鏡（CLSM）

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     聚光鏡球差透射（AC-STEM）-云現(xiàn)場

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    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     白光三維光學(xué)顯微鏡/3D光學(xué)輪廓儀

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    已預(yù)約3397次

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     生物樣SEM

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     電子探針顯微分析（EPMA）

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     生物冷凍掃描電鏡(Cryo-SEM)

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    已預(yù)約2838次

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     金相顯微鏡

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    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     微計算機斷層掃描(Micro-CT)

    微計算機斷層掃描(Micro-CT)

    已預(yù)約3837次

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     礦物自動分析儀（MLA）

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    已預(yù)約4562次

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     偏光顯微鏡

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    已預(yù)約2256次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     超景深顯微鏡

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    已預(yù)約1939次

    平均周期6.3天  |  總體滿意度99%

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     電子探針顯微分析（EPMA）-云視頻

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     三維X射線顯微鏡XRM（顯微CT）

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    已預(yù)約2767次

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     熱紅外成像儀

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    已預(yù)約1710次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     熱臺偏光顯微鏡

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    已預(yù)約1372次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     熒光顯微鏡（FM）

    熒光顯微鏡（FM）

    已預(yù)約1818次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     原位透射電鏡（in-situ TEM）

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    平均周期20天  |  總體滿意度99%

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     工業(yè)CT無損探傷類檢測

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     電子通道襯度成像（ECCI）

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     光學(xué)顯微鏡

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     巖石薄片分析

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     掃描隧道顯微鏡（STM）

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     環(huán)境掃描電鏡（ESEM）

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     免疫電鏡測試（IEM）

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     超聲波探傷儀

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     太赫茲三維層析成像系統(tǒng)

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     原位EBSD（in-situ EBSD）

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     微焦點X射線透視

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    常見問題

    Q&A

    Q：到底是發(fā)論文還是申請專利？
    A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準確，發(fā)明專利會經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨占權(quán)而受到法律保護，自己在先公開的論文會導(dǎo)致在后申請的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對于同一方案務(wù)必先申請專利再發(fā)表論文。
    Q：專利申請為什么要趁早？
    A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評獎、職稱考核、高企認定等過程中添加砝碼，競爭激烈，提早準備更容易命中目標。
    Q：哪些不能申請專利？
    A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標識作用的設(shè)計。
    Q：發(fā)明和實用新型有何區(qū)別？
    A：1.保護客體不同，發(fā)明專利保護產(chǎn)品、方法或者改進所提出的新的技術(shù)方案，實用新型專利只保護產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過實質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實用性，審查時間更長，實用新型不需要經(jīng)過實質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實用價值大。3.保護期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計專利權(quán)的期限為十五年，均自申請日起計算。
    Q：什么是技術(shù)交底書？
    A：技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達到了何種效果，以及希望保護的核心技術(shù)要點是什么，應(yīng)當盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
    Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
    A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請優(yōu)先審查，最快可在6-8個月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護中心的預(yù)審加快審查，進入快速審查通道，可進一步壓縮授權(quán)時間。
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