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XPS技術(shù)原理及在原位表征中的應(yīng)用

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XPS測(cè)試樣品的要求及取樣量詳解

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2024-11-11

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表面化學(xué)顯微鏡：原位XPS技術(shù)詳解

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2024-11-07

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XPS數(shù)據(jù)分析及分峰處理（擬合）的步驟與實(shí)踐

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2024-07-15

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淺層信息，深度解析：XPS數(shù)據(jù)分析技巧

淺層信息，深度解析： XPS 數(shù)據(jù)分析技巧 XPS ，即 X 射線光電子能譜技術(shù)，是一種強(qiáng)大的表面分析工具，能夠提供物質(zhì)表面組成和電子狀態(tài)的詳細(xì)信息；在材料科學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)等領(lǐng)域， XPS 數(shù)據(jù)分析技巧的應(yīng)用日益廣泛，為研究人員提供了深入解析物質(zhì)表面的能力。一、原理 XPS 利用 X 射線...

2024-07-12

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物質(zhì)表面分析新方法：原位XPS技術(shù)

物質(zhì)表面分析新方法：原位 XPS 技術(shù) 原位 XPS ，全稱(chēng)為原位 X 射線光電子能譜技術(shù)（ In situ X-ray Photoelectron Spectroscopy ），是一種基于 X 射線的表面分析技術(shù) ；它利用 X 射線照射樣品表面，使樣品表面的電子被打出，通過(guò)檢測(cè)這些逃逸電子的能...

2024-07-08

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納米尺度表面分析：微區(qū)XPS優(yōu)勢(shì)

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2024-07-05

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2024-06-24

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2024-06-14

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